It is a hybrid system combining thin-film deposition (sputtering) and precision etching functions for the fabrication of nanostructures of Josephson devices, forming the optimal oxide interface that determines the performance of superconducting quantum devices.(스퍼터 증착과 이온빔 에칭이 가능한 하이브리드 진공 시스템)

A system capable of simultaneously performing ion beam and sputtering process(이온빔 어시스트 기능을 강화한 스퍼터 증착 시스템)