With free control of the ion beam incidence angle and a real-time monitoring system, it enables precise etching profiles even in complex nanostructures and minimizes sample damage.(양산 라인 디바이스 제조 공정에 적용 가능한 고성능 이온빔 에칭 시스템)

Basic ion beam etching system suitable for research environments.(연구 환경에 적합한 기본적인 이온빔 에칭 시스템)

The most basic configuration of an RIE system for research purposes.(연구용으로 적합한 기본적인 구성의 반응성 이온 에칭 시스템)

High-performance reactive ion etching system configured with a loadlock chamber.(로드락 챔버와 함께 구성된 고성능의 반응성 이온 에칭 시스템)

High-performance ICP-RIE system optimized for research environments.(연구 환경에 최적화된 고성능의 ICP-RIE 시스템)